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  • 现货 原著第二版 半导体芯片制造集成电路光刻技术 林本坚 光刻技术 驱动光学光刻基本方程参数 光刻系统组件书 成像基础理论

    现货 原著第二版 半导体芯片制造集成电路光刻技术 林本坚 光刻技术 驱动光学光刻基本方程参数 光刻系统组件书 成像基础理论

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  • 光学光刻到极紫外 芯片制造核心技术 半导体先进光刻理论与技术 光刻 光刻理论工艺材料设备 EUV 微电子材料工程专业参考教材书籍

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  • 原著第二版 光刻系统组件 2册 半导体芯片制造集成电路光刻技术 光刻技术 半导体先进光刻理论与技术 微电子材料工程专业参考教材

    原著第二版 光刻系统组件 2册 半导体芯片制造集成电路光刻技术 光刻技术 半导体先进光刻理论与技术 微电子材料工程专业参考教材

    ¥285满238减20售0件

    化学工业出版社旗舰店
  • 碳化硅功率器件特性测试和应用技术 半导体技术 光刻胶 正版 书籍 半导体 第2版 光刻机 计量与检测技术 纳米压印 碳化硅

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  • 光刻技术 林本坚 驱动光学光刻基本方程参数 半导体芯片制造集成电路光刻技术 原著第二版 成像基础理论 半导体光刻 光刻系统组件

    光刻技术 林本坚 驱动光学光刻基本方程参数 半导体芯片制造集成电路光刻技术 原著第二版 成像基础理论 半导体光刻 光刻系统组件

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  • 张宏怡 官网正版 干法刻蚀 晶圆代工 摩尔定律 光刻技术 半导体工艺与设备 陈译 产业结构 芯片制造 陈铖颖 洁净系统

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    ¥41.469.00售0件

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  • 光刻机 牛夷 刻蚀 晶圆 一本书读懂芯片制程设备 王刚 工艺流程 姜晶 半导体 信息产业技术 当当网正版 晶片切割 王超 集成电路

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  • 正版 光学成像 高端集成电路制造工艺丛书 清华大学出版 社 光刻工艺设备 现货 集成电路 衍射极限附近 光刻工艺 伍强著

    正版 光学成像 高端集成电路制造工艺丛书 清华大学出版 社 光刻工艺设备 现货 集成电路 衍射极限附近 光刻工艺 伍强著

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  • 现代集成电路工厂中 先进光刻工艺研发方法与流程.李艳丽 伍强 社 一般工业技术9787302664185 清华大学出版

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    ¥104.87满99减10售0件

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  • 一本书读懂芯片制程设备集成电路科学与技术丛书王超姜晶牛夷集成电路信息产业技术工艺流程半导体晶圆晶片切割光刻机刻蚀 新华正版

    一本书读懂芯片制程设备集成电路科学与技术丛书王超姜晶牛夷集成电路信息产业技术工艺流程半导体晶圆晶片切割光刻机刻蚀 新华正版

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  • 半导体先进光刻理论与技术 微电子材料工程专业参考教材 光刻理论工艺材料设备关键部件分辨率增强建模与仿真典型物理与化学效应

    半导体先进光刻理论与技术 微电子材料工程专业参考教材 光刻理论工艺材料设备关键部件分辨率增强建模与仿真典型物理与化学效应

    ¥118.8满68减5售0件

    化学工业出版社旗舰店
  • 精装 超大规模集成电路先进光刻理论与应用韦亚一光刻技术概述匀胶显影机及其应用投影式 工作原理掩模板及其管理 光刻机

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  • 正版 书 衍极限附近 社 光刻工艺伍强清华大学出版

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    ¥126126.00售0件

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  • 书籍 光学光刻和极紫外光刻 当当网 正版

    书籍 光学光刻和极紫外光刻 当当网 正版

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  • 晶圆 干燥 官网正版 芯片 半导体制造设备基础与构造精讲 清洗 佐藤淳一 溅射靶材 光刻 子注入 蚀刻 原书第3版 图解入门

    晶圆 干燥 官网正版 芯片 半导体制造设备基础与构造精讲 清洗 佐藤淳一 溅射靶材 光刻 子注入 蚀刻 原书第3版 图解入门

    ¥59.499.00售0件

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  • 光刻机 牛夷 刻蚀 晶圆 一本书读懂芯片制程设备 王刚 工艺流程 姜晶 半导体 信息产业技术 官网正版 晶片切割 王超 集成电路

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    ¥59.499.00售0件

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  • 社芯片制造光刻技术 极紫外光刻 现货速发 紫外线光刻系统研究上海科学技术出版

    社芯片制造光刻技术 极紫外光刻 现货速发 紫外线光刻系统研究上海科学技术出版

    ¥87.487.40售0件

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  • 揭秘光刻巨头ASML 四十年科技帝国缔造之路 芯片制造:光刻巨头ASML传奇之路 再现ASML 全景式 权威传记 外国文学人物传记书籍

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    ¥57.759.40售0件

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  • 极紫外光刻 哈利·杰·莱文森 美 正版 著 译 高伟民

    极紫外光刻 哈利·杰·莱文森 美 正版 著 译 高伟民

    ¥99.8499.84售0件

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  • 芯片制造光刻巨头ASML传奇之路 AI革命时代 一本书读懂现代芯片发展史讲述ASML幕后故事

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    ¥4949.00售0件

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  • 正版 从酚醛树脂光刻胶到 化学工业出版 EUV光刻胶 光刻胶材料评测技术 社 各种评价原理方法工艺设备书籍 光刻胶

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  • EUV光刻胶 光刻胶材料评测技术——从酚醛树脂光刻胶到

    EUV光刻胶 光刻胶材料评测技术——从酚醛树脂光刻胶到

    ¥153.6满99减10售0件

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  • 集成电路与光刻机 当当网正版 书籍

    集成电路与光刻机 当当网正版 书籍

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  • 计算光刻与版 图优化 韦亚一 图设计全流程光刻模型设计与工艺协同优化 著 集成电路设计与制造书籍集成电路物理设计版

    计算光刻与版 图优化 韦亚一 图设计全流程光刻模型设计与工艺协同优化 著 集成电路设计与制造书籍集成电路物理设计版

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  • EUV光刻胶 光刻胶设备 光刻胶材料评测技术 光刻胶工艺 从酚醛树脂光刻胶到最新 光刻胶技术 光刻胶工作原理工艺流程及检测方法

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  • 集成电路与光刻机 正版 社 现货正版 科学出版 书籍

    集成电路与光刻机 正版 社 现货正版 科学出版 书籍

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  • 社kx 上册 光刻机像质检测技术 科学出版

    社kx 上册 光刻机像质检测技术 科学出版

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  • 官网现货 光刻机 计量与检测技术 半导体技术 碳化硅 光刻胶 碳化硅功率器件:特性 纳米压印 测试和应用技术 第2版 半导体

    官网现货 光刻机 计量与检测技术 半导体技术 碳化硅 光刻胶 碳化硅功率器件:特性 纳米压印 测试和应用技术 第2版 半导体

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  • 超大规模集成电路先进光刻理论与应用.韦亚一 电子 通信 社 9787030482686科学出版

    超大规模集成电路先进光刻理论与应用.韦亚一 电子 通信 社 9787030482686科学出版

    ¥256.4满197减20售0件

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  • 李艳丽 工艺 清华大学出版 伍强 集成电路 新书 现代集成电路工厂中 社 官方正版 先进光刻工艺研发方法与流程 先进光刻

    李艳丽 工艺 清华大学出版 伍强 集成电路 新书 现代集成电路工厂中 社 官方正版 先进光刻工艺研发方法与流程 先进光刻

    ¥99.051件8折售0件

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  • 清华大学出版 集成电路 伍强等 衍射极限附近 社 光刻工艺 高端集成电路制造工艺丛书 官方正版

    清华大学出版 集成电路 伍强等 衍射极限附近 社 光刻工艺 高端集成电路制造工艺丛书 官方正版

    ¥128.051件8折售0件

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  • 精装 超大规模集成电路先进光刻理论与应用韦亚一光刻技术概述匀胶显影机及其应用投影式 工作原理掩模板及其管理 光刻机

    精装 超大规模集成电路先进光刻理论与应用韦亚一光刻技术概述匀胶显影机及其应用投影式 工作原理掩模板及其管理 光刻机

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