计算光刻与版 图优化 韦亚一 图设计全流程光刻模型设计与工艺协同优化 著 集成电路设计与制造书籍集成电路物理设计版
计算光刻与版 图优化 韦亚一 图设计全流程光刻模型设计与工艺协同优化 著 集成电路设计与制造书籍集成电路物理设计版
所 在 地:江苏 南京 累计销量:0
店铺掌柜:  凤凰新华书店旗舰店 
商品标签:韦亚一图优化
39.3 44.50

声明:此商品数据来源由淘宝官方接口提供,所有交易过程在淘宝或天猫与第三方卖家进行,本网站不参与交易,如有交易产生的疑问请联系卖家凤凰新华书店旗舰店,如需删除此页面请 联系本站 >>
商品详情
  • 猜你喜欢